鷹眼級量測技術 提升半導體製程良率

  • 發布日期: 2017-12-27 08:11
  • 貢獻者: Marcos McDonald

記者陳駱宜巨集 蔡文綺/新竹報導

由於半導體IC的濕式製程中需要使用特定化學溶液清洗、蝕刻與研磨晶圓錶面,化學溶液中的雜質會影響製程良率,現階段利用光學原理來量測化學溶液,極限只能看到20奈米,但SuperSizer創新了量測方法,可量測的粒子範圍達3∼1千奈米,遠優於業界水準。


致茂科技董事長黃欽明則是說,SuperSizer的測試結果令他相當佩服,也是讓他想要加以發揚光大的原因。在與工研院聯手創立了兆晟後,目前先以幫助台灣半導體廠提升良率為目標


根據統計半導體製程良率提升1%,獲利將可提升8%,成果驚人。由於良率是先進製程的主戰場,如果可以有效監管並加以控制,對半導體製程良率提升將有很大的貢獻。


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資料來源:鷹眼級量測技術 提升半導體製程良率
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